著者

仲江弘史、磯部瞬、奥田寿俊、脇谷壮太朗
日本水処理工業（株）

出典

第43回建築物環境衛生管理全国大会　抄録集 (2016)

循環式浴槽において、塩素濃度240ppmを維持し15分循環する高濃度塩素殺菌洗浄で、LAMP法と培養法でのレジオネラ属菌検出状況を比較した。
培養法での結果では3現場において洗浄作業完了後にレジオネラ属菌が検出されたが、この3現場は洗浄工程の不備による人為的な結果と考えられた。その他の33現場では不検出であった。
LAMP法では、高濃度塩素殺菌作業後で36現場中１１現場、洗浄作業完了後で18現場でレジオネラ属菌が陽性となり、塩素濃度240ppmで死菌の遺伝子を破壊できないことが確認できた。しかし、塩素濃度120ppmでは73%が陽性であったことから、塩素濃度を高めることはLAMP法で陽性となる割合を低下させる有効な手段と思えた。